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MEMS加工

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刻蝕
  • 堿性腐蝕
    KOH,TMAH
  • 酸性腐蝕
    HF,BOE,HCI,HNO3等
  • 光刻膠剝離
    Acetone,IPA
  • 電感耦合等離子刻蝕
    GaN,GaAs,InP
  • 深硅刻蝕DRIE
    刻蝕均勻性<±5%,選擇比>50:1
  • 深氧化硅刻蝕
    石英,玻璃,硅,刻蝕形貌:90°±1°
  • 離子束刻蝕
    用于較難刻蝕的金屬或其他物質(zhì)
  • 反應(yīng)離子刻蝕
    Si,SiO?,SiNx
  • 灰化
    光刻膠,聚合物


案例展示


                         

          RIE of InP waveguide 7um polyimide                BOSCH工藝                   Deep Si etch SOI Notch Free                  SOI Notch Free      





【微納加工探索】晶圓鍵合技術(shù):成功鍵合的關(guān)鍵要素解析
【微納加工探索】晶圓鍵合技術(shù):成功鍵合的關(guān)鍵要素解析

2024-10-23

晶圓鍵合技術(shù),作為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一項(xiàng)核心技術(shù),通過化學(xué)與物理的雙重作用,將兩塊經(jīng)過鏡面拋光的晶圓(同質(zhì)或異質(zhì))緊密結(jié)合,形成穩(wěn)固的共價(jià)鍵連...

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【半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)透視】半導(dǎo)體制造工廠(Fab)人才培養(yǎng)的挑戰(zhàn)與路徑
【半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)透視】半導(dǎo)體制造工廠(Fab)人才培養(yǎng)的挑戰(zhàn)與路徑

2024-10-22

在科技飛速進(jìn)步的今天,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為信息技術(shù)的基石,其戰(zhàn)略地位愈發(fā)凸顯。然而,這一產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展并非自然而然的結(jié)果,而是依賴于源源不斷的高素...

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十萬個(gè)為什么:揭秘“die”——單顆裸芯的別稱
十萬個(gè)為什么:揭秘“die”——單顆裸芯的別稱

2024-10-21

一、晶圓:半導(dǎo)體制造的基石 二、芯片:封裝后的集成電路 三、Die:未封裝的晶粒 四、Die名稱的由來 德語拉絲工藝的聯(lián)系:另一種說法認(rèn)為,die的起源...

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【MEMS工藝】蝕刻工藝的精確計(jì)時(shí)
【MEMS工藝】蝕刻工藝的精確計(jì)時(shí)

2024-10-18

    為了構(gòu)建更緊密的幾何形狀和更薄的薄膜,我們需要在蝕刻速率與對(duì)其他操作參數(shù)的精確控制之間找到微妙的平衡,等離子體蝕刻技術(shù)因其高...

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