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新聞
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2023-09-11
開發(fā)EUV光源面臨的最大挑戰(zhàn) 在于。如何在提高EUV光源瓦數(shù)的同時(shí)，降低等離子氣氛中微粒、高速粒子和其它污染物，否則光源將會(huì)快速惡化。EUV光...
2023-09-08
對(duì)于光刻機(jī)而言，最核心的技術(shù)就是光源，光刻機(jī)按光源技術(shù)進(jìn)步次序可分為紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV）三大類。極紫外光刻...
2023-09-07
磁控濺射（Magnetron Sputtering）是一種常見的物理氣相沉積 (PVD) 工藝，是制造半導(dǎo)體、磁盤驅(qū)動(dòng)器和光學(xué)膜層的主要薄膜沉積方法。磁控濺射具有...
2023-09-06
（一）硅表面微機(jī)械加工技術(shù) 美國加州大學(xué)Berkeley分校的Sensor and Actuator小組首先完成了三層多晶硅表面微機(jī)械加工工藝，確立了硅表面微加工工藝...
2023-09-04
顯影是在硅片表面光刻膠中產(chǎn)生圖形的關(guān)鍵步驟。光刻膠上的可溶解區(qū)域被化學(xué)顯影劑溶解，將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。最常見的顯影方法是旋轉(zhuǎn)...
2023-09-01
EUV與現(xiàn)有光刻技術(shù)的主要區(qū)別，在于極紫外投影光刻系統(tǒng)使用了反射式掩模。反射式掩模采用堅(jiān)固的背支撐結(jié)構(gòu)．可以有效地防止由裝校應(yīng)力以及熱應(yīng)力產(chǎn)...
微特云辦公系統(tǒng) 微納制造 MEMS設(shè)計(jì)
