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  • MEMS技術(shù)的加工工藝
    MEMS技術(shù)的加工工藝

    2023-08-25

    (二)硅表面微機(jī)械加工技術(shù) 美國(guó)加州大學(xué)Berkeley分校的Sensor and Actuator小組首先完成了三層多晶硅表面微機(jī)械加工工藝,確立了硅表面微加工工藝...

  • 刻蝕偏差 (Etch Bias)
    刻蝕偏差 (Etch Bias)

    2023-08-22

    刻蝕偏差是指刻蝕以后線寬或關(guān)鍵尺寸間距的變化(見(jiàn)圖1)。它通常是由于橫向鉆刻引起的(見(jiàn)圖2),但也能由刻蝕剖面引起。當(dāng)刻蝕中要去除掩模下過(guò)量的...

  • 微流控芯片的制作技術(shù)(一)
    微流控芯片的制作技術(shù)(一)

    2023-08-22

    (1)光刻和刻蝕技術(shù) 傳統(tǒng)的用于制作半導(dǎo)體及集成電路芯片的光刻和刻蝕技術(shù),是微流控芯片加工工藝中最基礎(chǔ)的。它是用光膠、掩膜和紫外光進(jìn)行微細(xì)加工...

  • 傳感器的功能
    傳感器的功能

    2023-08-21

    通常將傳感器的功能與人類的五大感覺(jué)器官相比擬: 光敏傳感器——視覺(jué) 聲敏傳感器——聽(tīng)覺(jué) 氣敏傳感器——嗅覺(jué) 化學(xué)傳感器——味覺(jué) 壓敏、溫敏、流體傳...

  • 等離子體刻蝕面臨的挑戰(zhàn)
    等離子體刻蝕面臨的挑戰(zhàn)

    2023-08-21

    近幾十年來(lái),等離子刻蝕技術(shù)已取得了長(zhǎng)足發(fā)展。利用等離子刻蝕技術(shù),人們得以準(zhǔn)確地雕刻器件結(jié)構(gòu),從而為晶體管尺寸的縮小以及性能的提升提供了保障。...

  • 離子注入與傳統(tǒng)熱擴(kuò)散工藝區(qū)別
    離子注入與傳統(tǒng)熱擴(kuò)散工藝區(qū)別

    2023-08-18

    離子注入工藝是集成電路制造的主要工藝之一,它是指將離子束加速到一定能量(一般在keV 至Mev 量級(jí)范圍內(nèi)),然后注入固體材料表層內(nèi),以改變材料表層...

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