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  • 電鍍有幾種
    電鍍有幾種

    2023-08-18

    1、五金電鍍 分為常規(guī)五金包括銅、鎳、硌;高級(jí)五金包括金、銀;貴族五金包括金剛石、磚石。分別有掛鍍、滾鍍、龍門鍍,金、銀一般是以首飾掛鍍?yōu)橹鳎?..

  • 雙重曝光 Double Exposure (DE)
    雙重曝光 Double Exposure (DE)

    2023-08-17

    雙重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻膠覆蓋的晶片上分別進(jìn)行兩次曝光。兩次曝光是在同樣的光刻膠上進(jìn)行的,但使用不同的掩模版。 雙重曝光工...

  • 刻蝕剖面 Etch Cross-section
    刻蝕剖面 Etch Cross-section

    2023-08-17

    刻蝕剖面指的是被刻蝕圖形的側(cè)壁形狀。有兩種基本的刻蝕剖面:各向同性和各向異性刻蝕剖面。各向同性的刻蝕剖面是在所有方向上(橫向和縱向)以相同的...

  • 等離子刻蝕的應(yīng)用案例
    等離子刻蝕的應(yīng)用案例

    2023-08-16

    等離子刻蝕主要應(yīng)用在微電子制作工藝中,所有主要的處理對(duì)象是硅,用于精確圖形轉(zhuǎn)移。此外其還廣泛應(yīng)用于等離子刻蝕平板、薄膜刻蝕以及纖維刻蝕中。 1...

  • 全球刻蝕設(shè)備市場
    全球刻蝕設(shè)備市場

    2023-08-15

    目前,全球刻蝕機(jī)設(shè)備的參與者相對(duì)較少,行業(yè)整體處于寡頭壟斷格局。主要的參與者包括美國的Lam Research(泛林半導(dǎo)體)、AMAT(應(yīng)用材料)、日...

  • C4凸點(diǎn)技術(shù)
    C4凸點(diǎn)技術(shù)

    2023-08-15

    最早的FC晶圓C4凸點(diǎn)制造技術(shù)是IBM公司開發(fā)的蒸鍍工藝,目前最常用的方法是電化學(xué)沉積或電鍍工藝。 芯片凸點(diǎn)的蒸鍍工藝流程如下:將鉬掩模板對(duì)中至...

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