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測(cè)試服務(wù)

測(cè)試服務(wù)

Testing service

薄膜厚度測(cè)試
應(yīng)用:
–可以測(cè)量最大5層重疊薄膜的厚度和折射率。
–可測(cè)量如氧化物，氮化物，光阻，導(dǎo)電玻璃，聚合物和半導(dǎo)體薄膜等透明或半透明薄膜。
主要技術(shù)指標(biāo)參數(shù):
–對(duì)特定的介電質(zhì)測(cè)量厚度范圍20納米到150微米。
–對(duì)特定的材料厚道測(cè)量精度小于厚度的百分之一。
–測(cè)量波長(zhǎng)范圍350納米到1450納米。
–自動(dòng)測(cè)量點(diǎn)定位的功能，電機(jī)驅(qū)動(dòng)的樣品臺(tái)最大可滿足直徑200毫米樣品使用。
–有完備的光學(xué)參數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)可供調(diào)用。


【微納加工探索】晶圓鍵合技術(shù)：成功鍵合的關(guān)鍵要素解析
【微納加工探索】晶圓鍵合技術(shù)：成功鍵合的關(guān)鍵要素解析

2024-10-23

晶圓鍵合技術(shù)，作為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一項(xiàng)核心技術(shù)，通過化學(xué)與物理的雙重作用，將兩塊經(jīng)過鏡面拋光的晶圓（同質(zhì)或異質(zhì)）緊密結(jié)合，形成穩(wěn)固的共價(jià)鍵連...

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【半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)透視】半導(dǎo)體制造工廠（Fab）人才培養(yǎng)的挑戰(zhàn)與路徑
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2024-10-22

在科技飛速進(jìn)步的今天，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為信息技術(shù)的基石，其戰(zhàn)略地位愈發(fā)凸顯。然而，這一產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展并非自然而然的結(jié)果，而是依賴于源源不斷的高素...

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十萬(wàn)個(gè)為什么：揭秘“die”——單顆裸芯的別稱
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2024-10-21

一、晶圓：半導(dǎo)體制造的基石 二、芯片：封裝后的集成電路 三、Die：未封裝的晶粒 四、Die名稱的由來(lái) 德語(yǔ)拉絲工藝的聯(lián)系：另一種說法認(rèn)為，die的起源...

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【MEMS工藝】蝕刻工藝的精確計(jì)時(shí)
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2024-10-18

    為了構(gòu)建更緊密的幾何形狀和更薄的薄膜，我們需要在蝕刻速率與對(duì)其他操作參數(shù)的精確控制之間找到微妙的平衡，等離子體蝕刻技術(shù)因其高...

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