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2023-08-01
一、光刻技術(shù)：從接觸式到接近式 接觸式光刻技術(shù)良率低、成本高：接觸式光刻技術(shù)出現(xiàn)于20世紀(jì)60年代，是小規(guī)模集成電路時(shí)期最主要的光刻技術(shù)。接觸...
2023-08-01
一、電子束蒸發(fā)鍍膜簡(jiǎn)述： 電子束蒸發(fā)鍍膜（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種，與傳統(tǒng)蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場(chǎng)的配合...
2023-07-31
電子束光刻是一個(gè)相當(dāng)復(fù)雜的過程，其曝光過程中涉及到電子束與物質(zhì)的作用，這部分我們將在后續(xù)的過程中介紹，這里我們將介紹一下電子束光刻的曝光工藝...
2023-07-31
濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù)，其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場(chǎng)強(qiáng)度、靶源與基...
2023-07-28
當(dāng)我們使用電子束光刻做pattern時(shí)，有時(shí)候會(huì)發(fā)現(xiàn)在一些特殊情況下，無法獲得完美的圖形（圖形變形、斷線等），這種情況極有可能是因?yàn)殡娮邮饪痰某潆?..
2023-07-26
我們知道，在微納米技術(shù)的發(fā)展中MEMS一直是一個(gè)重要的應(yīng)用方向，MEMS技術(shù)在尺度上的特點(diǎn)是橫跨1um到1mm尺度且結(jié)構(gòu)復(fù)雜，除了常規(guī)我們使用的...
微特云辦公系統(tǒng) 微納制造 MEMS設(shè)計(jì)
