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直寫光刻在掩膜版制造過程中的應用
2023-08-14

掩膜版的生產主要包括以下幾個流程：圖形光刻，顯影，蝕刻，脫膜，清洗。其中，圖形光刻是通過光刻機進行激光光束直寫，以完成圖形曝光，掩膜版制造都...
掩膜板的制造和管理
2023-08-14

掩膜板的基材一般為熔融石英（quartz），這種材料對深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光學透射，而且具有非常低的溫度膨...
最佳曝光劑量的確定
2023-08-11

曝光劑量和曝光時間之間的換算因子為了獲得根據光刻膠技術數據表中給出的推薦曝光劑量確定的正確地曝光時間，必須知道以下內容: · 曝光...
紫外曝光的光反應過程
2023-08-11

曝光：在光刻膠膜中發(fā)生的化學過程導致其在顯影液中溶解度的增加(正膠)或減少(負膠)，從而可以產生出特定結構光刻膠膜。基于DNQ-基光引發(fā)劑的正膠...
通用去膠方案
2023-08-10

通用去除劑在去膠發(fā)生困難的情況下（例如在密集的等離子蝕刻或濺射之后），超聲或兆聲清洗會對去除光刻膠帶來很大的幫助。但是，在此過程中必須保護襯...
蝕刻工藝的精確計時
2023-08-10

對于更緊密的幾何形狀和更薄的薄膜，需要在蝕刻速率與對其他操作參數的良好控制之間取得平衡。 “隨著設計規(guī)則的縮小，許多蝕刻工藝正在轉向非常快速的...