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直寫光刻在掩膜版制造過程中的應用
2023-08-14

掩膜版的生產主要包括以下幾個流程：圖形光刻，顯影，蝕刻，脫膜，清洗。其中，圖形光刻是通過光刻機進行激光光束直寫，以完成圖形曝光，掩膜版制造都...
掩膜板的制造和管理
2023-08-14

掩膜板的基材一般為熔融石英（quartz），這種材料對深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光學透射，而且具有非常低的溫度膨...
最佳曝光劑量的確定
2023-08-11

曝光劑量和曝光時間之間的換算因子為了獲得根據光刻膠技術數(shù)據表中給出的推薦曝光劑量確定的正確地曝光時間，必須知道以下內容: · 曝光...
紫外曝光的光反應過程
2023-08-11

曝光：在光刻膠膜中發(fā)生的化學過程導致其在顯影液中溶解度的增加(正膠)或減少(負膠)，從而可以產生出特定結構光刻膠膜。基于DNQ-基光引發(fā)劑的正膠...
通用去膠方案
2023-08-10

通用去除劑在去膠發(fā)生困難的情況下（例如在密集的等離子蝕刻或濺射之后），超聲或兆聲清洗會對去除光刻膠帶來很大的幫助。但是，在此過程中必須保護襯...
蝕刻工藝的精確計時
2023-08-10

對于更緊密的幾何形狀和更薄的薄膜，需要在蝕刻速率與對其他操作參數(shù)的良好控制之間取得平衡。 “隨著設計規(guī)則的縮小，許多蝕刻工藝正在轉向非?？焖俚?..