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  • MEMS工藝與TFT-LCD工藝
    MEMS工藝與TFT-LCD工藝

    2023-09-18

             MEMS加工工藝目前主要有體硅微機(jī)械加工工藝、表面微機(jī)械加工工藝和非硅工藝3種。     &nbs...

  • 氧化石墨烯摻雜法
    氧化石墨烯摻雜法

    2023-09-15

    利用該法制備摻雜石墨烯所需要準(zhǔn)備的是氧化石墨烯薄膜。而氧化石墨烯的制備比石墨烯的制備就要簡(jiǎn)單且耗費(fèi)也不大,并且制備條件也不用高溫等的苛刻條件...

  • 激光蝕刻催生GaAS太赫茲輻射
    激光蝕刻催生GaAS太赫茲輻射

    2023-09-15

    當(dāng)沒(méi)有更便宜更有效的方法來(lái)批量生產(chǎn)太赫茲發(fā)射器( terahertz emitters)時(shí),激光蝕刻 不失為一個(gè)增大砷化鎵(gallium arsenide:GaAs)輸出的好...

  • 實(shí)現(xiàn)高精度深硅刻蝕的方法
    實(shí)現(xiàn)高精度深硅刻蝕的方法

    2023-09-14

    深反應(yīng)離子刻蝕工藝,是實(shí)現(xiàn)高深寬比特性的重要方式,已成為微加工技術(shù)的基石。這項(xiàng)刻蝕技術(shù)在眾多領(lǐng)域均得到了應(yīng)用:1)MEMS電容式慣性傳感器;2)...

  • 化學(xué)鍍鎳的工藝特點(diǎn)
    化學(xué)鍍鎳的工藝特點(diǎn)

    2023-09-13

    化學(xué)鍍鎳技術(shù)是采用金屬鹽和還原劑,在材料表面上發(fā)生自催化反應(yīng)獲得鍍層的方法。到目前為止,化學(xué)鍍鎳是國(guó)外發(fā)展最快的表面處理工藝之一,且應(yīng)用范圍也...

  • 濕法刻蝕工藝
    濕法刻蝕工藝

    2023-09-12

    干法刻蝕(Dry Etching)是使用氣體刻蝕介質(zhì)。 常用的干法刻蝕方法包括物理刻蝕(如離子束刻蝕)和化學(xué)氣相刻蝕(如等離子體刻蝕)等。 與干法蝕刻相...

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